邹世昌简介简历(个人资料介绍)
邹世昌，材料科学家。原籍江苏太仓，1931年7月27日生于上海。1952年毕业于唐山交通大学冶金工程系。1958年获苏联莫斯科有色金属学院副博士学位。中国科学院上海冶金研究所研究员。1991年当选为中国科学院院士（学部委员）。 60年代负责国防重点任务甲种分离膜加工成形部分工作，对技术路线进行优选决策。70年代以后在离子束与固体相互作用以及离子束材料改性、合成、加工和分析等方面进行了系统的研究工作。独创用二氧化碳激光背面辐照获得了离子注入损伤的增强退火效应。用全离子注入技术研制成中国**块120门砷化镓门阵列电路，用反应离子束加工成中国**批闪光全息光栅。研究SOI材料并制成CMOS／SOI电路。发展了离子束增强沉积技术并合成了氮化硅、氮化钛薄膜。 [以上内容由" 荆山松"分享。] 邹世昌相关 中国***第十四届**委员会（候补委员） 同年(公元1931年)出生的名人： 齐康 中国科学院院士 江苏省南京雨花台 高世扬 (1931～2002) 中国科学院院士 四川省成都市崇州市 洪孟民 (1931～2012) 中国科学院院士 浙江省台州临海 宋健 中国科学院院士,中国工程院院士・信息与电子工程学部 山东省威海荣成市 陈星弼 中国科学院院士 浙江省金华浦江县 + 更多公元1931年出生的名人》 下一名人：邹志刚